Induktives Verdampfen

Induktives Verdampfen findet hauptsächlich im Vakuum statt. Dabei wird das zu verdampfende Material in einem geeigneten Behältnis durch hochfrequente, starke elektrische Ströme erhitzt und setzt sich als Schicht auf dem Substrat ab.

Schema: Prinzip der induktiven Verdampfung
Prinzip der induktiven Verdampfung

Die zu beschichtenden Wafer sind oben in der Kuppel des Doms angeordnet. Der Tiegel mit dem flüssigen Schichtmaterial befindet sich direkt darunter. Dank des Vakuums bewegen sich die Beschichtungsteilchen nahezu geradlinig von der Quelle zum Substrat.